檢定標準
國文
均標
英文
前標
篩選倍率
1
國
6.0倍
2
英
4.5倍
歷年篩選資料
| 年度 | 名額 | 篩選階段 | 校系PR值 |
|---|---|---|---|
| 115 | 23人 |
1
國
6.0倍
2
英
4.5倍
|
— |
| 114 | 20人 |
4
國
0.0倍
|
— |
| 113 | 20人 |
4
國
0.0倍
|
— |
| 112 | 20人 |
4
素描
0.0倍
|
— |
| 111 | 20人 |
4
素描
0.0倍
|
— |
第二階段甄試
甄試期間：
2026年5月22日～2026年5月23日
面試
40%
學測
30%
審查資料
30%
學測採計權重
國文
× 1.00
英文
× 1.50
審查資料項目
審查資料
項目：
修課紀錄(A)、課程學習成果(B、C)、多元表現(F、K、M、N)、學習歷程自述(O、P、Q)、其他(R.作品集)
說明：
1.本組之審查資料準備指引1月21日公告於本校招生專區及本系網頁，請考生逕行至網站查閱。2.作品集請依甄選會審查資料上傳系統規定上傳，無須再逕行寄送紙本作品集。
甄試說明
1.本系設計組及創作組於第一階段報名時，限擇一組報名。2.本組參加校內聯合分發，詳參「重要事項說明」(見本校基本資料)。3.面試(口試):須攜帶3-5件作品集內之代表作入場應試，每人面試時間以12分鐘為原則。4.如考生面試未達錄取標準(70分)不予錄取。5.弱勢生優先錄取1名。
學習歷程指引
尚未提供
學習歷程提醒
審查資料佔比 30%，建議提前準備自傳、讀書計畫及相關作品集。